微影設備大廠荷商艾司摩爾第2季財報符合市場預期，
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，執行長Peter Wennink表示，
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，行動裝置需求強勁，
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，帶動晶圓代工廠及記憶體廠擴大投資，
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，其中晶圓代工廠已著手準備20奈米以下先進製程產能，
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，DRAM廠則擴大Mobile DRAM的擴產，
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，因此，
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，下半年市場景氣將優於上半年。
艾司摩爾（ASML）第2季因合併了微影光學廠Cymer，
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，單季營收達11.87億歐元，
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，並銷售了38台微影設備，其中來自於晶圓代工廠的訂單占了43％強，又以台積電的訂單最多。而艾司摩爾已接但未出貨（backlog）的微影設備訂單已達42台，將在年底前陸續交貨給客戶。
艾司摩爾執行長Peter Wennink表示，晶圓代工廠客戶已經著手進行20奈米至14奈米以下先進製程的微影設備建置，將用來生產新一代的行動裝置內建處理器晶片，同樣受惠於行動裝置強勁需求的DRAM廠，因為面臨產能短缺問題，也已開始著手擴充Mobile DRAM產能。
艾司摩爾先前預估今年營收目標約47.3億歐元，但受惠於客戶擴大採購，營收目標將上調到50億歐元。
艾司摩爾與英特爾、台積電、三星等共同合作進行的「客戶聯合投資專案」（Customer Co-Investment Program），主要投入極紫外光（EUV）及18吋晶圓微影設備的開發。
在EUV微影技術方面，艾司摩爾指出，研發進度符合預期，光源功耗已提升到55Ｗ，並完成60W的測試，預估2014年可將EUV微影設備的每小時晶圓產出量，提升到70片速度，亦即光源功耗將提升到100W。而艾司摩爾預估今年將出貨5台NXE：3300B的EUV微影設備，並已拿到11台正式訂單及7台預訂訂單。
根據台積電共同營運長蔣尚義的預期，EUV至少要達到每小時完成處理100片晶圓的產出量，才會具有經濟效益，帶動半導體廠改用EUV微影技術。設備業者推估，時間點應會落在2015年左右，10奈米可能是EUV真正可以進入量產的製程節點。
在18吋晶圓微影設備部份，艾司摩爾根據客戶聯合投資專案內容，正在準備生產6套設備，初期將分成浸潤式（immersion）及EUV等兩大平台，其中2015年會先推出EUV微影平台試產設備，2016年推出浸潤式平台試產設備，真正量產型的18吋微影設備的出貨時間大約落在2018年。，